Retix C Ultra Repair Nano-Mask 1szt

Maska profesjonalna do pielęgnacji pozabiegowej.

Wskazania 

• Podrażniona i zaczerwiona skóra. 

Skład/Działanie 

Dzięki wykorzystaniu technologii nanowłókien tworzących trójwymiarową strukturę biocelulozy zapewnia bardzo wysoką absorbcję i aktywne uwalnianie trzech form kwasu hialuronowego oraz ektoiny – EctoHyal Complex 3.0.

Bioceluloza jako materiał wykorzystywany w kosmetologii i medycynie do regeneracji, idealnie przylega do obszaru zabiegowego tworząc efekt drugiej skóry.

Składniki aktywne maski koją, redukują zaczerwienienia i nieprzyjemne uczucie ściągnięcia.

BISABOLOL – składnik o bardzo silnych właściwościach przeciwzapalnych i łagodzących skórę. Przyspiesza proces gojenia, koi podrażnioną i wrażliwą skórę.

ECTOHYAL COMPLEX 3.0 to połączenie unikalnych właściwości ektoiny oraz trzech form kwasu hialuronowego dla optymalnego, wielopoziomowego nawilżenia i złagodzenia podrażnień skóry.

Ektoina stanowi ochronę przed fotostarzeniem się skóry, ponadto wzmacnia funkcję bariery i wspiera funkcje naprawcze, jest składnikiem o udowodnionym działaniu przeciwstarzeniowym.

Stosowanie 

Maskę należy delikatnie wyjąć z opakowania zabezpieczającego, następnie rozłożyć i usunąć niebieską warstwę.

Maskę nałożyć na twarz tak, aby doskonale przylegała do skóry.

Pozostawić na skórze przez około 20 minut, następnie maskę usunąć, a nadmiar produktu wmasować. 

Środki ostrożności 

Należy zużyć natychmiast po otwarciu. Przechowywać w miejscu niedostępnym dla dzieci. 

INCI 

Aqua (Water), Glycerin, Propylene Glycol, Polyacrylate-13, Polyisobutene, Estoin, p-Anisic Acid, Chlorphenesin, Sodium Hyaluronate, Lactic Acid, Sodium Hydroxide, Bisabolol, Polysorbate 20, 0-Cymen-5-ol, Sorbitan Isostearate, Sodium Phytate, Ethylhexyl Palmitate, Alcohol, Trihydroxystearin.